洁净度至上
芯片光刻对环境洁净度要求极高。工作区域需保持超净环境，每立方米空气中的尘埃粒子数严格受限。工程师们需身着特制洁净工作服，避免自身携带尘埃颗粒影响光刻精度。同时，整个车间要定期进行全面清洁与消毒，确保光刻设备处于一尘不染的状态，以防止尘埃颗粒附着在芯片上，造成光刻缺陷。
温湿度精准控制
光刻过程对温度和湿度变化极为敏感。一般来说，工作环境温度需控制在特定的狭窄范围内，通常在 20℃ - 25℃之间。微小的温度波动都可能导致光刻胶的性能改变，进而影响芯片图案的精确形成。湿度方面，相对湿度需维持在 40% - 60%左右，这样能保证光刻胶的均匀涂布与显影效果，避免因湿度过高或过低引发的光刻质量问题。
稳定的电磁环境
芯片光刻设备对电磁干扰非常敏感。工作环境必须具备良好的电磁屏蔽措施，防止外界电磁信号干扰光刻设备的正常运行。工程师们需确保周围没有强电磁源，如大型电机、变压器等设备。同时，车间内部的电气系统要经过特殊设计和优化，减少自身产生的电磁干扰，为光刻过程提供稳定可靠的电磁环境，保障芯片光刻的高精度和稳定性。
低振动环境
光刻过程需要极高的稳定性，任何微小的振动都可能导致光刻图案出现偏差。因此，工作环境要尽量减少振动源。光刻设备通常安装在专门设计的减振平台上，车间地面也需进行减振处理。工程师们在操作设备时要避免产生不必要的振动，如轻拿轻放工具、保持操作动作平稳等。此外，还要关注车间周边环境，避免附近有重型机械作业或车辆频繁行驶产生的振动影响光刻工作。
